总部位于比利时的领先半导体研究公司Imec今天宣布，其与ASML的联合实验室在芯片制造方面取得了一系列突破。
该实验室于6月开放，旨在为生态系统合作伙伴提供早期访问高NA EUV原型扫描仪的机会。
高NA机器代表了极紫外(EUV)光刻系统的最新进展，该系统利用光在硅片上绘制芯片图案。这是ASML迄今为止最高端的工具。
现在，imec表示，这项技术的使用已经产生了令人印象深刻的结果。
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首先是成功地打印出带有9.5纳米密集金属线的逻辑芯片的电路模式，这对应于19nm的间距和低于20nm的尖端尺寸。这本质上转化为超小型和密集封装的电路，可以提供更强大和高效的芯片。
imec还展示了高NA光刻技术在逻辑芯片中实现2D路由的能力。二维布线是指在芯片的单层上创建复杂的路径，以连接各种组件或电路元件的过程。
此外，这家比利时研究公司表示，它已经成功地在一次曝光中完成了动态随机存取存储器(DRAM)芯片的图案设计。
曝光是用光将图案转移到半导体晶圆上的过程。DRAM芯片通常需要多个曝光，这意味着将数量减少到一个可以显著降低制造成本。
逻辑芯片的图案也在一次曝光中打印出来。
根据imec的说法，这些早期的演示证实了ASML的说法，即High NA机器可以制造更小、更快、更节能的芯片。
imec总裁兼首席执行官Luc Van den hove表示:“因此，高NA EUV将对逻辑和存储技术的尺寸扩展起到重要作用。
Van den hove还指出，这些演示将“加速”将这些工具引入制造业。
据报道，英特尔是今年5月第一家购买ASML High NA机器的公司。买家名单还包括三星和芯片巨头台积电，尽管后者最初对这项技术持怀疑态度。
约翰娜是TNW的一名作家。她的报道涵盖了欧洲科技生态系统的方方面面，对初创企业和可持续发展尤其感兴趣。她涵盖了欧洲科技生态系统的方方面面，尤其对初创企业、可持续发展、绿色科技、人工智能和欧盟政策感兴趣。她拥有人文学科的背景，对能够产生社会影响的技术有着特殊的爱好。
